반도체 생산라인에서 계측되고 저장되는 수많은 데이터를 대상으로 보다 진보된 공정의 건강도 관리 방법을 도출하는데 목적을 두고 진행되었다. OES(Optical Emission Spectroscopy) 데이터를 대상으로 다양한 데이터마이닝 방법을 적용하여 생산라인별 분석 및 VM(virtual metrology) 모델을 구축하고, 검증하는 과정에서 공정에 영향을 미치는 주요 인자 및 그에대한 통제 범위를 설정하는 성과를 거두었다.